kolloidales Silizium ~ 10 ppm

Kolloidales Silizium wird im Hochvolt-Plasma-Verfahren leicht bräunlich. Wesentlich höhere Konzentrationen können nicht hergestellt werden, denn sobald das Wasser gesättigt ist, sinken bei Verlängerung der Herstellungszeit die Elektrodenteilchen nur noch zu Boden.

Durch die Hochvolt-Plasma-Herstellung ist es um ein vielfaches wirksamer, als durch die elektrolytische Herstellung, deshalb sind Konzentrationen von 5 bis 10 ppm völlig ausreichend.

In dem Video wird die kolloidale Herstellung im Protonenresonanz-Verfahren, der Chemischen, das Hochvolt-Plasma-Verfahren (Bredig-Verfahren), der Laserablation sowie die ionische Herstellung mit Silbergeneratoren aufgezeigt.

Es würde den Rahmen dieser Produktbeschreibung sprengen, warum sich bestimmte Kolloide nicht in stärkeren Konzentrationen herstellen lassen, ohne auf Chemikalien zurückzugreifen. Sie finden die ausführlichen Informationen im Praxis-Handbuch der Kolloid-Herstellung.

Herstellungsverfahren

Kolloidales Silizium wird im Hochvolt-Plasma-Verfahren durch Verdampfen der Siliziumteilchen bei 3.500° C in 2-fach destilliertem Wasser hergestellt. Es werden keine Zusatzstoffe hinzugefügt. Nach der Herstellung wird es gefiltert und in hochgradig lichthemmenden Miron-Glasflaschen abgefüllt, welche den Energiegehalt lange aufrechterhalten.

Das verwendete Reinstwasser wird als Erstes durch eine Osmose-Anlage gereinigt. Somit werden auch flüchtige Stoffe wie z. B. Chlor und Chlorabbauprodukte entfernt, die bei einer Destillation im Wasser enthalten bleiben (der Siedepunkt dieser Stoffe ist niedriger als der von Wasser). Anschließend wird das gereinigte Wasser 2-fach destilliert. Somit wird die maximale Reinheit erreicht.

Die Haltbarkeit beträgt durch die Hochvolt-Herstellung sowie der Abfüllung in Miron-Glasflaschen 12 Monate. Kolloidales Silizium ist rechtlich kein zugelassenes Nahrungsergänzungsmittel und wird ausschließlich für technische Anwendungen verkauft.